国产氧化钒薄膜沉积设备的研发及产业化通过成果鉴定

无锡尚积--国产氧化钒薄膜沉积设备的研发及产业化

项目通过科技成果鉴定

 

无锡尚积半导体科技有限公司基于项目创始团队多年的技术积累，研制完成的国产化氧化钒薄膜沉积设备的研发及产业化项目，形成了自主可控的氧化钒PVD全新设备研制的能力，打破了国外公司的垄断。

鉴定委员会由亚太材料科学院孙卓院士、复旦大学微电子学院卢红亮教授、上海大学显示中心李喜峰教授、上海师范大学物理系张毅闻教授和上海市真空学会韩建华高级工程师等5名专家组成。由孙卓院士任专家组组长。

2024年6月11日，由上海市真空学会组织专家组召开了《国产氧化钒薄膜沉积设备的研发及产业化》项目技术鉴定会。鉴定委员会听取了无锡尚积半导体科技有限公司王世宽总经理团队的研制总结报告，审阅了国内外同类技术的综合比较分析报告，经济与社会效益分析报告，检测报告，发明和实用新型专利证明，用户使用情况和相关查新报告等资料，现场查验了设备生产及科研开展情况。

 

鉴定委员会认为：氧化钒溅射设备与工艺技术已推广应用于非制冷红外焦平面探测器芯片、智能窗、激光镜头防护等领域，具有非常广阔的应用空间。项目研制的氧化钒溅射设备具有高沉积速率、高薄膜电阻均匀性、高靶材利用率，高稳定性。项目产品的研制及产业化打破了国际上对氧化钒薄膜溅射设备的长期垄断，提升了国产半导体专用设备的自主供应水平，增强了我国半导体产业的竞争力，促进了产业链的持续稳健发展。

该项目申请了相关专利33项，其中发明专利30项（授权5项），实用新型专利授权3项。国产氧化钒薄膜沉积设备的研发及产业化项目完成了预期的指标并实现了产业化应用。所研制的设备具有新颖性，综合技术达到了国内领先、国际先进水平。